光刻胶去除机

在使用掩膜进行光或X线曝光时，将掩膜图形，或在使用不需要掩膜的电子束曝光时，将数据式图形复制在半导体硅片表面的光刻胶上，形成光刻胶像。设备用来将产品上的光刻胶去除。

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